直流溅射法制备金属薄膜
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解决时间 2021-02-19 23:46
- 提问者网友：捧腹剧
- 2021-02-19 17:03
直流溅射法制备金属薄膜
最佳答案
- 五星知识达人网友：鱼忧
- 2021-02-19 17:55
1反射光应该接近于白光，可以去看下金膜的反射率曲线。
金膜应该没有透过率吧
2均匀性和你的溅射靶的设计有关，还与你的夹具设计有关。
3干涉法没接触过
4整个真空室里都是等离子体，所以沉积上也是正常的，没有办法解决。
金膜应该没有透过率吧
2均匀性和你的溅射靶的设计有关，还与你的夹具设计有关。
3干涉法没接触过
4整个真空室里都是等离子体，所以沉积上也是正常的，没有办法解决。
全部回答
- 1楼网友：患得患失的劫
- 2021-02-19 19:21
一、1、取决于金属成分
2、取决于金属膜的表面结构
二、取决于磁场、气体、温度和间距的匹配来保证均匀性
三、薄膜表面要透明，光学级平整的表面，最好用单色激光干涉
四、有办法解决，清洗内壁或涂上无油无水的薄膜
2、取决于金属膜的表面结构
二、取决于磁场、气体、温度和间距的匹配来保证均匀性
三、薄膜表面要透明，光学级平整的表面，最好用单色激光干涉
四、有办法解决，清洗内壁或涂上无油无水的薄膜
- 2楼网友：胯下狙击手
- 2021-02-19 18:25
1、金对500nm以下的光线有较弱的反射率，也就是在可见光绿、青、蓝、紫反射较弱，反射光呈黄、橙、红的复合色。可透射紫雾状，也不一定，看厚度；
2、最佳办法让工件绕靶公转，并自转；其他可以加大靶与工件的距离，等等
3、不知道
4、沉积的不定向性，只会远离靶，可以增加工件密度，但不会杜绝
2、最佳办法让工件绕靶公转，并自转；其他可以加大靶与工件的距离，等等
3、不知道
4、沉积的不定向性，只会远离靶，可以增加工件密度，但不会杜绝
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