场效应管在夹断后,为什么还有饱和电流
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解决时间 2021-11-19 14:18
- 提问者网友:战魂
- 2021-11-18 16:01
场效应管在夹断后,为什么还有饱和电流
最佳答案
- 五星知识达人网友:妄饮晩冬酒
- 2021-11-18 16:31
场效应管在夹断后,还有饱和电流的原因是:
当漏一源之间接上+ VDS时,从源一沟道一漏组成的N型半导体区域内产生了一个横向的电位梯度:源区为零电位,漏区为+ VIB,而沟道的电位则从源端向漏端逐渐升高。在沟道的不同位置上,沟道厚度不同,源湍最厚,漏端最薄,逐渐升高。在沟道的不同位置上,沟道厚度不同,源端最厚,漏端最薄,当VDS增大到栅一漏电位差VGS= VLS= VGS(rh)时,漏端预夹断。这个夹断区成了漏一源间电流通路上电阻最大的区。V璐的任何一点增加都必然会集中降在这里,使预夹断区具有很强的电场。由于现在被夹的只是漏端的一个小区域,在预夹断区左边还有N沟道,这些自由电子仍可在沟道中漂移,在到达预夹断区时,就受夹断区强电场的吸引,滑入漏区。所以,在漏端预夹断后,漏一源之间仍有漏极电流ID。
场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型(junction FET—JFET)和金属 - 氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET)。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(107~1015Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。
当漏一源之间接上+ VDS时,从源一沟道一漏组成的N型半导体区域内产生了一个横向的电位梯度:源区为零电位,漏区为+ VIB,而沟道的电位则从源端向漏端逐渐升高。在沟道的不同位置上,沟道厚度不同,源湍最厚,漏端最薄,逐渐升高。在沟道的不同位置上,沟道厚度不同,源端最厚,漏端最薄,当VDS增大到栅一漏电位差VGS= VLS= VGS(rh)时,漏端预夹断。这个夹断区成了漏一源间电流通路上电阻最大的区。V璐的任何一点增加都必然会集中降在这里,使预夹断区具有很强的电场。由于现在被夹的只是漏端的一个小区域,在预夹断区左边还有N沟道,这些自由电子仍可在沟道中漂移,在到达预夹断区时,就受夹断区强电场的吸引,滑入漏区。所以,在漏端预夹断后,漏一源之间仍有漏极电流ID。
场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型(junction FET—JFET)和金属 - 氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET)。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(107~1015Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。
全部回答
- 1楼网友:渡鹤影
- 2021-11-18 18:06
ID接近于零的栅极电压称为夹断电压
饱和漏源电流.是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,栅极电压UGS=0时的漏源电流
首先,门极-源极间电压以0V时考虑(VGS =0)。在此状态下漏极-源极间电压VDS 从0V增加,漏电流ID几乎与VDS 成比例增加,将此区域称为非饱和区。VDS 达到某值以上漏电流ID 的变化变小,几乎达到一定值。此时的ID 称为饱和漏电流(有时也称漏电流用IDSS 表示。与此IDSS 对应的VDS 称为夹断电压VP ,此区域称为饱和区。
饱和漏源电流.是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,栅极电压UGS=0时的漏源电流
首先,门极-源极间电压以0V时考虑(VGS =0)。在此状态下漏极-源极间电压VDS 从0V增加,漏电流ID几乎与VDS 成比例增加,将此区域称为非饱和区。VDS 达到某值以上漏电流ID 的变化变小,几乎达到一定值。此时的ID 称为饱和漏电流(有时也称漏电流用IDSS 表示。与此IDSS 对应的VDS 称为夹断电压VP ,此区域称为饱和区。
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