【溅射靶】磁控溅射中为什么不能在靶的上方加一平行磁场?但如果...
答案:2 悬赏:0 手机版
解决时间 2021-03-09 07:29
- 提问者网友：眉目添风霜
- 2021-03-09 02:42
【溅射靶】磁控溅射中为什么不能在靶的上方加一平行磁场?但如果...
最佳答案
- 五星知识达人网友：雾月
- 2021-03-09 04:11
【答案】 在靶的上方加磁场在理论上是可以的,但是有两点需要注意：首先磁场必须与靶面距离很近,并且需要足够的磁场强度.其次,产生磁场的磁源不可以对溅射环境产生影响.
在现实情况下,磁源不在溅射范围内并且能够在靶表面产生足够磁场强度的很不容易实现,所以在靶上方的平行磁场一般不考虑.
哦,你是这个意思,这样,你怎么控制其余部位的磁场?也就是说靶材表面以外不能有磁场,比如平面靶边缘等地方,如果有的话溅射过程中便会产生杂质.
在现实情况下,磁源不在溅射范围内并且能够在靶表面产生足够磁场强度的很不容易实现,所以在靶上方的平行磁场一般不考虑.
哦,你是这个意思,这样,你怎么控制其余部位的磁场?也就是说靶材表面以外不能有磁场,比如平面靶边缘等地方,如果有的话溅射过程中便会产生杂质.
全部回答
- 1楼网友：七十二街
- 2021-03-09 05:35
这下我知道了
我要举报
如以上问答信息为低俗、色情、不良、暴力、侵权、涉及违法等信息，可以点下面链接进行举报！
大家都在看
推荐资讯