（1）SiO2在自然界中广泛存在，它是制备现代通讯材料______（写该材料名称）的主要原料；以SiO2为原料，

（1）SiO2在自然界中广泛存在，它是制备现代通讯材料______（写该材料名称）的主要原料；以SiO2为原料，在工业上制备单质硅的化学方程式为______；在常温下，SiO2可与一种酸发生反应，该反应的化学方程式为SiO2+4H2 高温 . SiF4↑+2H2OSiO2+4H2 高温 . SiF4↑+2H2O．该反应的重要应用是______．（2）检验溶液中Fe3+存在的试剂是______，证明Fe3+存在的现象是______；电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜以制造印刷电路板，该反应的离子方程式为______．

（1）SiO2广泛存在自然界中，其用途也非常广泛，可用于制造光导纤维，也用于生产半导体材料硅，碳能与二氧化硅反应生成硅单质，化学反应方程式：SiO2+2C═Si+2CO↑，二氧化硅能与氢氟酸反应生成四氟化硅气体，用于刻画玻璃，化学反应方程式：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，（1）光导纤维；SiO2+2C═Si+2CO↑；SiO2+4HF

 高温 
.

  SiF4↑+2H2O；刻蚀玻璃．
（2）检验溶液中Fe3+存在通常用KSCN溶液，取少量溶液与试管中，滴加KSCN溶液，溶液呈血红色，说明Fe3+存在；铜与氯化铁反应生成氯化铜、氯化亚铁，反应的离子方程式为：2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+
故答案为：KSCN溶液；溶液呈血红色；2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+．

不明白啊 = =！