angstrom磁控溅射设备怎么样
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解决时间 2021-03-14 23:56
- 提问者网友：沦陷
- 2021-03-14 13:50
angstrom磁控溅射设备怎么样
最佳答案
- 五星知识达人网友：骨子里都是戏
- 2021-03-14 14:40
磁控溅射是物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种。
一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。
因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。
磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。
因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。
磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
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- 1楼网友：几近狂妄
- 2021-03-14 15:29
额
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