不知您对靶材行业了解不，行业情况、据说国内靶材不行工艺难点在哪里呢>?谢谢啦。

不知您对靶材行业了解不，行业情况、据说国内靶材不行工艺难点在哪里呢>?谢谢啦。

我就对钛靶材谈谈我的看法。钛在国内现在的工艺已经很成熟。就比如一个很小的公司10个人的公司就可以加工制作不是很难。至于工艺难点，对内行人没什么，如果说有难点，主要是在质量上，这是应为要打价格战的后果。国内靶材不行也在这，主要是在原材料上，用了好的原料大公司成本就比小公司高的多，没办法和小公司竞争，要是不用好原料，小公司就比不上大公司，造成的后果就是恶性循环。这个就是造成国内靶材不行的真正原因。这个行业现在的状况是你做你的。我做我的只要有点利润就可以。这个就是我的个人看法，希望可以帮到你

磁控溅射靶材 1）磁控溅射原理： 在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为ar气），永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ecr）型微波等离子体溅射。 2）磁控溅射靶材种类： 金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（cr-sio），磷化铟靶材（inp），砷化铅靶材（pbas），砷化铟靶材（inas）。