RF溅射SiO2时，反射功率有时会突然增大，然后恢复正常，会是什么原因引起的？
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解决时间 2021-03-12 15:32
- 提问者网友：活着好累
- 2021-03-12 10:12
RF溅射SiO2时，反射功率有时会突然增大，然后恢复正常，会是什么原因引起的？
最佳答案
- 五星知识达人网友：老鼠爱大米
- 2021-03-12 10:38
能具体说说是在什么时候突然加大的吗？刚开始？还是正常溅射时？追问是在正常溅射过程中突然增大，马上就自动恢复正常了。追答有没有可能是热积累到一定程度后，匹配器自己重新适应的结果呢？
我们的设备比较简单，匹配器是个半手动的，没遇到过这种情况。
我们的设备比较简单，匹配器是个半手动的，没遇到过这种情况。
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