氢氧化钾和双氧水混合溶液清洗硅片

在单晶硅片清洗过程中，如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片，则硅片表现正常，不会发生腐蚀；但单独用KOH溶液清洗硅片，就会发生硅片腐蚀，为什么呢？前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么？

这个需要你继续研究了，能了解这个问题的时候，你就对单晶硅片整个切片原理了解的非常透彻了，我是卖单晶硅片清洗剂的，所以不会回答你，不过你多去现场做试验，总有一天会推算出这个方程式的

氨水是为了消除电池硅片的杂质和切削磨料，双氧水是为了吧切削液的残余部分冲洗干净。电池车间的技术我不太懂，不过氢氧化钠是生成气体可能是氢气，异丙醇是类似酒精的成分帮助挥发。