光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂，请问具体的工艺步骤是什么？具体问题如下：

光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂，请问具体的工艺步骤是什么？具体问题如下：

1, HMDS是气相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一会儿，温度约100-180度即可
2，HMDS处理后需要冷却后涂胶，但等待时间不能太长，过长处理效果会变差，建议4小时内完成涂胶
3，HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果
4，HMDS本身是表面改性，HMDS本身不会涂在园片表面，因此不用担心去除HMDS层
主意：HMDS有生殖毒性，使用时候青年男女请谨慎使用追问请问能用甩涂的方法涂布吗？因为，我们实验室没有气相涂布的设备，我们想用类似于涂光刻胶的方法涂覆，请问如果可以的话具体的操作步骤是什么？谢谢

HMDS是极易挥发的液体，甩涂的方法倒没听说过。只要有烘箱就可以处理了呀。HMDS处理流程肯定是要必须密闭并且有专门真空环境的，否则效果不佳。
再次提醒：HMDS有毒性，不是随便玩的。看看日本人的ACT，MARK等设备的预处理腔体设置的多重防泄漏装置就知道他有多危险了。

HMDS是容易挥发的液体，因此是气相涂布在表面，需要一个烘箱，链接HMDS管路，烘烤后把HMDS蒸汽吸入烘箱并处理1分钟后即可。