六甲基二硅氮烷与水反应方程式

还有三甲基一氯硅烷燃烧反应方程式

2(CH3)3SICL+O2=6CO2+2SIO2+8H2O+2HCL
2(CH3)3SI-N--SI(CH3)3+6H2O=12CH4+4SIO2+N2

甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为hmds，实际上就是水解反应。 主要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去二氧化硅和水反应的羟基，使其变为疏水性，而光刻胶是疏水的，从而增加了附着力。