工业上高硅可通过下列反应制取:SiCl4+2H2=Si+4HCl 该反应热＝？
答案:3 悬赏:70 手机版
解决时间 2021-03-06 03:03
- 提问者网友：捧腹剧
- 2021-03-05 11:37
工业上高硅可通过下列反应制取:SiCl4+2H2=Si+4HCl 该反应热＝？
最佳答案
- 五星知识达人网友：逐風
- 2021-03-05 13:12
这个是2005年江苏省的一道高考题啊。
需要注意的是Si是四面体结构，一个硅和四个硅相连，有4个硅硅键，但是属于这个硅的只有2个硅硅键,因为周围的四个硅原子都只有一半属于中间这个硅原子。
所以反应热=4*360+2*436-2*176-4*4314=236千焦/摩尔
需要注意的是Si是四面体结构，一个硅和四个硅相连，有4个硅硅键，但是属于这个硅的只有2个硅硅键,因为周围的四个硅原子都只有一半属于中间这个硅原子。
所以反应热=4*360+2*436-2*176-4*4314=236千焦/摩尔
全部回答
- 1楼网友：夜余生
- 2021-03-05 14:31
236千焦/摩尔
- 2楼网友：何以畏孤独
- 2021-03-05 13:29
段开键需吸收热量,形成键放热
计算可知吸热2312千焦放热1724
故反映总放热为2312-1724=588KJ
计算可知吸热2312千焦放热1724
故反映总放热为2312-1724=588KJ
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