专利侵权行为的判定原则

我想问下如何理解关于全面覆盖原则中这句话：
当专利独立权利要求中记载的必要技术特征采用的是上位概念特征，而被控侵权物采用的是相应的下位概念特征时，则被控侵权物落入专利的保护范围。
（最重要的解释什么是上位概念特征，什么是下位概念特征）

"上位概念"即外延较大的"属概念"
"下位概念"即外延较小的"种概念"
例如：
用“气体激光器”概括氦氖激光器、氩离子激光器、一氧化碳激光器、二氧化碳激光器等。其中“气体激光器”为"上位概念"，其余为"下位概念"。

专利侵权行为是指在专利权的有效期限内，任何他人在未经专利权人许可，有人没有其他法定事由的情况下，擅自以营利为目的实施专利的行为。 专利侵权行为的判定原则为： 1.专利权有效原则； 2.以权利要求书的内容为准的原则； 3. 技术特征完整对待原则； 4.全面覆盖原则； 5.等同原则； 6.禁止反悔原则； 7.多余指定原则。