近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、碱性的（NH3-NH4Cl）以及传统的（HCl-FeC

近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、碱性的（NH3-NH4Cl）以及传统的（HCl-FeCl3）等3种．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．几种蚀刻废液的常用处理方法如下：


（1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有______、______．（用离子方程式表示）．
（2）HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：______．
（3）H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的______（填序号）
①酸性KMnO4溶液????????②NaCl（固）??????????③葡萄糖??????????④甲醛
（4）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是______．
（5）碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3?H2O+O2=2Cu（NH3）4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是______．

解：（1）FeCl3型酸性废液中含有Fe3+和Fe2+，Fe3+具有氧化性，可与Fe反应，离子方程式为Fe+2Fe3+=3Fe2+，Fe2+具有还原性，可与Cl2反应，离子方程式为2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-，
故

我也是这个答案