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【磁控溅射镀膜】磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别

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解决时间 2021-03-06 05:02
【磁控溅射镀膜】磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
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【答案】 前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.
  后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
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我明天再问问老师,叫他解释下这个问题
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