光刻胶在硅片上匀胶时出现放射状条纹，请问是什么原因？胶已经用0.22μm的过滤器过滤，基本可排除颗粒影响
答案:4 悬赏:80 手机版
解决时间 2021-01-09 10:45
- 提问者网友：浪荡绅士
- 2021-01-08 11:51
光刻胶在硅片上匀胶时出现放射状条纹，请问是什么原因？胶已经用0.22μm的过滤器过滤，基本可排除颗粒影响
最佳答案
- 五星知识达人网友：不想翻身的咸鱼
- 2021-01-08 13:06
粘度大，流平性不好。
全部回答
- 1楼网友：毛毛
- 2021-01-08 15:03
浓度多大的，涂的膜厚多大？
- 2楼网友：妄饮晩冬酒
- 2021-01-08 14:40
1.胶量不足
2.wafer 台阶较大
2.wafer 台阶较大
- 3楼网友：duile
- 2021-01-08 13:18
只能是颗粒影响吧！这种现象我还真不知道还有什么事情能引起。
你之前一直用过来，工艺是成熟的 没有设备参加整个活动。追问放射状条纹的出现肯定是由于胶的厚度不均一，放射条纹处较薄或者是较厚，针对颗粒我们过滤了好几次。如果是颗粒的话（我觉得可能较小），该怎么有效的解决。除了过滤想不出其他方法了。而0.22的已经够 了吧。是不？
你之前一直用过来，工艺是成熟的 没有设备参加整个活动。追问放射状条纹的出现肯定是由于胶的厚度不均一，放射条纹处较薄或者是较厚，针对颗粒我们过滤了好几次。如果是颗粒的话（我觉得可能较小），该怎么有效的解决。除了过滤想不出其他方法了。而0.22的已经够 了吧。是不？
我要举报
如以上问答信息为低俗、色情、不良、暴力、侵权、涉及违法等信息，可以点下面链接进行举报！
大家都在看
推荐资讯