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直流溅射法制备薄膜时,膜厚的均匀性如何保证

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解决时间 2021-02-22 12:20
直流溅射法制备薄膜时,膜厚的均匀性如何保证
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影响膜厚均匀性有2个关键:气场和磁场。还有一个关键的问题:靶材的均匀性。具体溅射方式和基体的状态楼主说明白点我们在讨论。
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