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在CMOS工艺的剖面图中,P衬底上的P+和N阱中的N+分别起什么作用

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解决时间 2021-03-17 00:09
在CMOS工艺的剖面图中,P衬底上的P+和N阱中的N+分别起什么作用
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貌似..是源漏外接时,高掺杂才能形成欧姆接触,所以用+。同时也是为了防止latch-up效应(shan锁),那两个接触高掺杂是衬底和Well的偏置连接点,NMOS是P+接gnd,PMOS是N+接到vdd,还有一个作用貌似是可以收集衬底上的电流,也就是偏置让电路更稳定,避免latchup和衬底偏置效应引起的阈值电压变化,等一系列寄生效应。
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用来减小漏电流
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