本人刚接手pecvd工艺，请问一般使用硅烷和何种气体搭配，纯度要求怎么样，气体比例如何。
我就是长一层普通的保护膜，没有什么折射率等其他要求，就致密，均匀，大概0.5~1微米吧，请告诉我一般硅烷和氮气流量比例，还有笑气，工作压等
求助薄膜沉积PECVD问题
答案:2 悬赏:50 手机版
解决时间 2021-02-06 18:21
- 提问者网友：饥饿走向夜
- 2021-02-06 11:12
最佳答案
- 五星知识达人网友：舍身薄凉客
- 2021-02-06 12:12
我暂时保留我的看法！
全部回答
- 1楼网友：白昼之月
- 2021-02-06 13:15
1. 设备是不是二手设备，建议用较高温度来做chamber 的 conditon2. pm建议用热擦，在高温下开chamber如果做过上述动作还不能解决问题，需要做下面的试验1. 采用较长的precoat,可以先把现在的时间延长一倍2.采用较长的clean时间，先shudown一次，然后用通常的方法跑货，把clean时间延长20%
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